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产品形貌
参数
u乐国际电子研发的粉末镀膜装备为三腔结构，真空腔体内部安排一个粉末镀膜反应腔，粉末镀膜反应腔内部包括有最多4个自力的样品仓，可一次沉积4种差别的粉末品。接纳细密的反应气场控制，可以同时在四种差别纳米粉末上匀称生长薄膜质料;ALD反应所需的前驱体源通过两个自力的进气通道进入粉末镀膜反应腔，在经由样品仓后通出。阻止了CVD反应，气流发动粉末在样品仓内举行稍微运动，使ALD反应能在粉末外貌顺遂举行。
u乐国际电子粉末镀膜原子层沉积装备的乐成研发，为催化、情形、电池质料等领域的用户提供了可靠的粉体镀膜计划，为相关领域用户取得更多的科研效果及手艺突破提供了新的解决计划。
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定制化原子层沉积系统
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